Нанесение фоторезиста
Установка нанесения фоторезиста НФ-150П
Комплектация:
- модуль нанесения фоторезиста.
Назначение: Нанесение фоторезистивных плёнок на гладкую и рельефную поверхность пластин и подложек.
Особенности: Нанесение фоторезистивных плёнок методом центрифугирования. Установка соответствует требованиям эксплуатации в помещениях класса Р5(100) («чистое помещение» класса 5 ИСО 5 по ГОСТ Р ИСО 14644–1–2002).
Установка нанесения
фоторезиста НФТО-150П
с термообработкой
Комплектация:
- модуль нанесения фоторезиста
- модуль термообработки
Назначение: Нанесение фоторезиста с последующей термообработкой.
Особенности: Подача фоторезиста на пластину в статическом и динамическом режимах, подача фоторезиста насосом-дозатором, формирование плёнки фоторезиста, отмывка краевого валика, проведение термообработки слоя фоторезиста на горячей плите.
Проявление фоторезиста
Установка проявления
фоторезиста ПФ-150П
Комплектация:
- модуль проявления фоторезиста.
Назначение: Проявление фоторезистивных плёнок на гладкую и рельефную поверхность пластин и подложек.
Особенности: Проявление фоторезистивных плёнок методом полива проявителя на вращающуюся поверхность пластины. Установка соответствует требованиям эксплуатации в помещениях класса Р5(100) («чистое помещение» класса 5 ИСО 5 по ГОСТ Р ИСО 14644–1–2002).
Установка проявления
фоторезиста ПФТО-150П
с термообработкой
Комплектация:
- модуль проявления фоторезиста
- модуль термообработки
Назначение: Проявление фоторезиста с последующей термообработкой.
Особенности: Проявление фоторезиста на пластине, промывка поверхности пластин деионизованной водой, отмывка обратной стороны, сушка пластин методом центрифугирования, термообработка фоторезиста после проявления.
Универсальные установки
Установка нанесения
и проявления
фоторезиста
Комплектация:
- модуль нанесения фоторезиста
- модуль термообработки
- модуль проявления фоторезиста
Линия нанесения фоторезиста ЛНФА-150
Коплектация:
- модуль загрузки/выгрузки
- модуль нанесения фоторезиста
- модуль термообработки
- модуль термостабилизации
Особенности: Автозагрузка пластин из кассеты и перенос пластин на позиции обработки, мегазвуковая струйная очистка пластин, обработка пластин парами ГМДС на «горячей плите», формирование фоторезистивных плёнок методом центрифугирования, термообработка плёнок на «горячей плите», термостабилисзация пластин на «холодной плите».
Линия проявления фоторезиста ЛПФА-150
Коплектация:
- модуль загрузки/выгрузки
- модуль нанесения фоторезиста
- модуль термообработки
- модуль термостабилизации
Особенности: Автозагрузка пластин из кассеты и перенос пластин на позиции обработки, обработка пластин на «горячей плите», проявление фоторезистивных плёнок методом полива проявителя, термообработка плёнок на «горячей плите», термостабилисзация пластин на «холодной плите».
Кластерные линии фотолитографии
Комплектация:
- модуль для работы со «степпером»
- модуль нанесения фоторезиста
- модуль проявления фоторезиста
- модуль термообработки
- модуль термостабилизации
- модуль загрузки/выгрузки
- модуль мегазвуковой обрабоки
Назначение: Выполнение этапов очистки пластин, обработки промотором адгезии, нанесения фоторезиста, сушки, термостабилизации, проявления.